Раздел 2 / 6

Страница 4 / 11

1. Основные понятия вакуумной техники: быстрота откачки, быстрота действия, сопротивление и проводимость трубопровода

Режим постраничного просмотра

/

На первую страницу

На предыдущую главу

На следующую главу

Озвучивание недоступно

/

Внимание! Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.

Режим постраничного просмотра

Для продолжения работы требуется Registration

На предыдущую главу

На следующую главу

Скачать приложение

Основы конструирования вакуумных плазменных установок

Table of contents

Введение

1. Основные понятия вакуумной техники: быстрота откачки, быстрота действия, сопротивление и проводимость трубопровода -

1.1. Основное уравнение вакуумной техники

1.2. Дифференциальное уравнение откачки. Расчет длительности форвакуумной откачки с учетом натекания

1.3. Остаточное давление в камере. Потоки натекания. Истинные и кажущиеся течи. Адсорбция и десорбция газов. Расчет длительности высоковакуумной откачки

2. Вакуумные насосы +

3. Потоки нейтральных и заряженных частиц в плазменном PVD-процессе +

4. Откачка вакуумных систем

Литература