Раздел 2 / 7

Страница 1 / 15

Глава 1. Основные тенденции развития методов ХОГФ тонких пленок из газовой фазы

Режим постраничного просмотра

/

На первую страницу

На предыдущую главу

На следующую главу

На последнюю страницу

Озвучивание недоступно

/

Внимание! Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.

Режим постраничного просмотра

Для продолжения работы требуется Registration

На предыдущую главу

На следующую главу

Скачать приложение

Технология тонких пленок для микро- и наноэлектроники

Table of contents

Введение

Глава 1. Основные тенденции развития методов ХОГФ тонких пленок из газовой фазы -

Заключение по главе 1

Вопросы для самопроверки по главе 1

Дополнительная литература к главе 1

Глава 2. Общая характеристика методов ХОГФ +

Глава 3. Параметры аппаратуры и процессов ХОГФ +

Глава 4. Методология и исследования кинетики роста тонких пленок при ХОГФ +

Глава 5. Обобщения и практические рекомендации для решения технологических задач +

Библиографический список