Раздел 2 / 6

Страница 1 / 11

1. Основные понятия вакуумной техники: быстрота откачки, быстрота действия, сопротивление и проводимость трубопровода

Режим постраничного просмотра

/

На первую страницу

На предыдущую главу

На следующую главу

На последнюю страницу

Озвучивание недоступно

/

Внимание! Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.

Режим постраничного просмотра

Для продолжения работы требуется Регистрация

На предыдущую главу

На следующую главу

Скачать приложение

Основы конструирования вакуумных плазменных установок

Оглавление

Введение

1. Основные понятия вакуумной техники: быстрота откачки, быстрота действия, сопротивление и проводимость трубопровода -

1.1. Основное уравнение вакуумной техники

1.2. Дифференциальное уравнение откачки. Расчет длительности форвакуумной откачки с учетом натекания

1.3. Остаточное давление в камере. Потоки натекания. Истинные и кажущиеся течи. Адсорбция и десорбция газов. Расчет длительности высоковакуумной откачки

2. Вакуумные насосы +

3. Потоки нейтральных и заряженных частиц в плазменном PVD-процессе +

4. Откачка вакуумных систем

Литература