Раздел 5 / 8

Страница 26 / 26

3. Вакуумно-плазменное травление и ионно-лучевая обработка

Режим постраничного просмотра

/

На первую страницу

На предыдущую главу

На следующую главу

На последнюю страницу

Озвучивание недоступно

/

Внимание! Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.

Режим постраничного просмотра

Для продолжения работы требуется Регистрация

На предыдущую главу

На следующую главу

Скачать приложение

Формирование функциональных слоев

Оглавление

Предисловие

Введение

1. Основы электронных, ионных и плазменных технологий. Нанесение тонких пленок в вакууме

2. Расчет режимов нанесения тонких пленок в вакууме

3. Вакуумно-плазменное травление и ионно-лучевая обработка

4. Измерения и контроль в вакууме

5. Перспективы элионных технологий

Интернет-источники