Раздел 3 / 8

Страница 1 / 23

1. Основы электронных, ионных и плазменных технологий. Нанесение тонких пленок в вакууме

Режим постраничного просмотра

/

На первую страницу

На предыдущую главу

На следующую главу

На последнюю страницу

Озвучивание недоступно

/

Внимание! Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.

Режим постраничного просмотра

Для продолжения работы требуется Registration

На предыдущую главу

На следующую главу

Скачать приложение

Формирование функциональных слоев

Table of contents

Предисловие

Введение

1. Основы электронных, ионных и плазменных технологий. Нанесение тонких пленок в вакууме

2. Расчет режимов нанесения тонких пленок в вакууме

3. Вакуумно-плазменное травление и ионно-лучевая обработка

4. Измерения и контроль в вакууме

5. Перспективы элионных технологий

Интернет-источники