Раздел 6 / 7

Страница 12 / 21

Глава 5. Обобщения и практические рекомендации для решения технологических задач

Режим постраничного просмотра

/

На первую страницу

На предыдущую главу

На следующую главу

На последнюю страницу

Озвучивание недоступно

/

Внимание! Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.

Режим постраничного просмотра

Для продолжения работы требуется Registration

На предыдущую главу

На следующую главу

Скачать приложение

Технология тонких пленок для микро- и наноэлектроники

Table of contents

Введение

Глава 1. Основные тенденции развития методов ХОГФ тонких пленок из газовой фазы +

Глава 2. Общая характеристика методов ХОГФ +

Глава 3. Параметры аппаратуры и процессов ХОГФ +

Глава 4. Методология и исследования кинетики роста тонких пленок при ХОГФ +

Глава 5. Обобщения и практические рекомендации для решения технологических задач -

5.1. Обобщения исследований кинетики роста кремнийсодержащих ТП

5.2. Управление процессами ХОГФ

5.2.1. Высокоскоростные реакции ХОГФ - процессы группы Д

5.2.2. Низкоскоростная реакция ХОГФ - процессы групп А-В

5.3. Общие закономерности взаимосвязи кинетики роста и свойств ТП

5.4. Импульсные процессы ХОФГ

5.5. Импульсные процессы АСО

Заключение по главе 5

Вопросы для самопроверки по главе 5

Дополнительная литература к главе 5

Библиографический список