Справка
x
STUDENT'S CONSULTANT
Электронная библиотека технического вуза
Все издания
Login/Registration
Во весь экран / Свернуть
ru
Accessibility
General Catalogue
Все издания
Menu
Искать в книге
К результату поиска
Advanced search
Bookmarks
Homepage
Login/Registration
Во весь экран / Свернуть
ru
Управление
My reports
General Catalogue
Издательства
УГС
Мои списки
Download app
Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения
Оборот титула
Table of contents
Введение
ГЛАВА 1. Современные источники плазмы для технологических применений. Преимущества источников ICP
ГЛАВА 2. Конструкции антенн источников ICP
ГЛАВА 3. Нанесение тонких пленок с ассистированием источником ICP
ГЛАВА 4. Плазмохимическое травление различных материалов с помощью источников ICP
ГЛАВА 5. Изменение свойств поверхности различных материалов при обработке в источнике ICP
Заключение
Список литературы
Close Menu
Раздел
2
/
8
Страница
1
/
15
ГЛАВА 1. Современные источники плазмы для технологических применений. Преимущества источников ICP
/
/
Внимание! Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Для продолжения работы требуется
Registration
General Catalogue
Издательства
УГС
Мои списки
Скачать приложение
Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения
Table of contents
Введение
ГЛАВА 1. Современные источники плазмы для технологических применений. Преимущества источников ICP
ГЛАВА 2. Конструкции антенн источников ICP
ГЛАВА 3. Нанесение тонких пленок с ассистированием источником ICP
ГЛАВА 4. Плазмохимическое травление различных материалов с помощью источников ICP
ГЛАВА 5. Изменение свойств поверхности различных материалов при обработке в источнике ICP
Заключение
Список литературы
