Раздел 5 / 8

Страница 1 / 150

ГЛАВА 4. Плазмохимическое травление различных материалов с помощью источников ICP

Режим постраничного просмотра

/

На первую страницу

На предыдущую главу

На следующую главу

На последнюю страницу

Озвучивание недоступно

/

Внимание! Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.

Режим постраничного просмотра

Для продолжения работы требуется Registration

На предыдущую главу

На следующую главу

Скачать приложение

Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения

Table of contents

Введение

ГЛАВА 1. Современные источники плазмы для технологических применений. Преимущества источников ICP

ГЛАВА 2. Конструкции антенн источников ICP

ГЛАВА 3. Нанесение тонких пленок с ассистированием источником ICP

ГЛАВА 4. Плазмохимическое травление различных материалов с помощью источников ICP

ГЛАВА 5. Изменение свойств поверхности различных материалов при обработке в источнике ICP

Заключение

Список литературы