ГЛАВА 3. Нанесение тонких пленок с ассистированием источником ICP

Если Вы наш подписчик,то для того чтобы скопировать текст этой страницы в свой конспект,
используйте просмотр в виде pdf. Вам доступно 13 стр. из этой главы.

Скачать приложение

Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения

Введение

ГЛАВА 1. Современные источники плазмы для технологических применений. Преимущества источников ICP

ГЛАВА 2. Конструкции антенн источников ICP

ГЛАВА 3. Нанесение тонких пленок с ассистированием источником ICP

ГЛАВА 4. Плазмохимическое травление различных материалов с помощью источников ICP

ГЛАВА 5. Изменение свойств поверхности различных материалов при обработке в источнике ICP

Заключение

Список литературы

ГЛАВА 3. Нанесение тонких пленок с ассистированием источником ICP

Table of contents