Раздел 5 / 5

Страница 3 / 47

Глава 4. Кинетика и механизмы травления Cu, GaAs и Si в плазме хлора и его смесей с Ar, N2, H2 и O2

Режим постраничного просмотра

/

На первую страницу

На предыдущую главу

На последнюю страницу

Озвучивание недоступно

/

Внимание! Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.

Режим постраничного просмотра

Для продолжения работы требуется Регистрация

На предыдущую главу

Скачать приложение

Неравновесная плазма хлора: свойства и применение

Оглавление

Введение +

Глава 1. Методические вопросы исследования параметров плазмы и гетерогенных плазменных процессов +

Глава 2. Параметры плазмы и закономерности образования и гибели активных частиц при разряде в хлоре +

Глава 3. Механизмы образования и гибели активных частиц в плазме смесей хлора с Ar, N2, H2 и O2 +

Глава 4. Кинетика и механизмы травления Cu, GaAs и Si в плазме хлора и его смесей с Ar, N2, H2 и O2 -

§ 4.1. Кинетика и механизмы травления Cu в плазме Cl2 и Cl2/Ar

§ 4.2. Кинетика и механизмы травления GaAs в плазме Cl2 и в смесях Cl2/Ar, Cl2/N2, Cl2/O2 и Cl2/H2

§ 4.3. Кинетика и механизмы травления монокристаллического кремния в плазме Cl2 и в смеси Cl2/Ar

Заключение: анализ механизмов влияния начального состава смеси на скорость травления

Литература