Справка
ЭБС "КОНСУЛЬТАНТ СТУДЕНТА"
Электронная библиотека технического вуза
Все издания
Вход / регистрация
Во весь экран / Свернуть
en
Версия для слабовидящих
Каталог
Все издания
Меню
Искать в книге
К результату поиска
Расширенный поиск
Закладки
На главную
Вход / регистрация
Во весь экран / Свернуть
en
Управление
Мои отчеты
Каталог
Издательства
УГС
Мои списки
Скачать приложение
Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения
Оборот титула
Оглавление
Введение
ГЛАВА 1. Современные источники плазмы для технологических применений. Преимущества источников ICP
ГЛАВА 2. Конструкции антенн источников ICP
ГЛАВА 3. Нанесение тонких пленок с ассистированием источником ICP
ГЛАВА 4. Плазмохимическое травление различных материалов с помощью источников ICP
ГЛАВА 5. Изменение свойств поверхности различных материалов при обработке в источнике ICP
Заключение
Список литературы
Close Menu
Раздел
6
/
8
Страница
1
/
65
ГЛАВА 5. Изменение свойств поверхности различных материалов при обработке в источнике ICP
/
/
Внимание! Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Для продолжения работы требуется
Регистрация
Каталог
Издательства
УГС
Мои списки
Скачать приложение
Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения
Оглавление
Введение
ГЛАВА 1. Современные источники плазмы для технологических применений. Преимущества источников ICP
ГЛАВА 2. Конструкции антенн источников ICP
ГЛАВА 3. Нанесение тонких пленок с ассистированием источником ICP
ГЛАВА 4. Плазмохимическое травление различных материалов с помощью источников ICP
ГЛАВА 5. Изменение свойств поверхности различных материалов при обработке в источнике ICP
Заключение
Список литературы
